Diseño, Construcción y Caracterización de un Reactor de Plasma en la Universidad de los Andes
*+F.A.Campo, **+ D.Vizcaino,**+ J.Solanilla, *+ J.A.Escobar
*Prof. Instructor Dpto. Ing.Mecánica Uniandes, **Estudiante MSc. Ing. Mecánica Uniandes, +Miembros del Centro de Investigación de Propiedades y Estructuras de los Materiales (CIPEM)
Introducción
La tecnología del plasma ha sido en los últimos años de vital importancia en la producción de chips, tratamientos de materiales así como la nituración, la carburización, formación de films, entre otras[Chapman, Lieberman, Raizer, OBrien]. Además permite usos innovadores en la sinterización en donde se han visto mejorías tanto en la tasa a la cual se sinteriza así como la temperatura a la cual se activan los fenómenos de transporte [Brasileros,Escobar,Klein,Maliska, otros]. En este artículo, se explica el funcionamiento de un reactor de plasma, el desarrollo y diseño de este para la Universidad de los Andes, algunos resultados preliminares de la caracterización del reactor construido en la Universidad para el Centro de Investigación de Propiedades y Estructuras de los Materiales (CIPEM) y los proyectos propuestos que se pueden desarrollar en el campo de los materiales.
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